第一作者（或者共同第一作者）：彭建釗（副研究員），麥景行（碩士研究生） 

通訊作者（或者共同通訊作者）：張雷教授，李慧齊助理教授，樂弦副教授

通訊單位：深圳大學

年份：2025

Doi：https://doi.org/10.1002/adfm.202527905

“O 側”工程則通過用弱場配體替換強場配體，生成了兩個高自旋樣品。

圖1 材料合成與電鏡表征

a) 調整Ni-N₂O₂配合物的配位環境；b) Ni-N₂O₂HMCs結構示意圖；c) Ni-N₂O₂HMCs的TEM圖像 ；d) Ni-N₂O₂HMCs的HAADF-STEM圖像。

圖2 材料的XPS與XAS表征

a) Ni-N₂O₂ HMCs的Ni 2p圖像，可以見到高自旋樣品出現了明顯的衛星峰，并且氧化態更高；b) Ni-N₂O₂的Ni 2p，可以吡啶氮配位樣品的XPS結合能高于亞胺結構樣品；c) XANES 譜圖顯示，所有 Ni-N?O? HMCs 的邊緣能量接近 NiO，表明鎳的價態為 Ni2?；d) EXAFS 分析顯示，所有 Ni-N?O? HMCs 中均未觀察到 Ni-Ni 或 Ni-O-Ni 散射峰，進一步證實了鎳位點是原子級分散；(e)通過擬合同步輻射證明Ni-N2O2 HMCs的配位情況。

圖3 RRDE測試

a) LSV測試：高自旋樣品在RRDE測試中起始電位明顯高于低自旋樣品；b) RRDE選擇性：可以看出Ni-DPP HMCs 在寬電位下（0.2-0.7 V vs. RHE）的選擇性均高于90%；c) 在0.4V、0.5V和0.6V時，Ni-N₂O₂ HMCs的H2O2選擇性與起始電位（E₀）之間的相關性；d) N₂氛圍下的H₂O₂RR測試，可以看出Ni-DPP HMCs對H²O²的分解能力最弱，進一步印證其選擇性高的原因；(e)KSCN毒化實驗：低自旋樣在KSCN毒化實驗中電流減弱程度明顯低于高自旋樣品，這很可能歸功于鄰近Ni-N₂O₂基序的α碳，該基序促進O₂活化，并與SCN^-競爭吸附；(f)Ni-DPP HMCs的H₂O₂選擇性，起始電位（E₀）與已報道文獻進行對比。

圖4 工業級電流下高效生產H₂O₂與有機合成應用

(a) 0.1M KOH流動池下的LSV；(b) 1M KOH下不同電流密度的FE與H₂O₂產率；(c) 流動池性能對比：Ni-DPP HMCs能在流動電解池中于800 mA cm?2的工業級電流密度下，實現了52.13 mol g_cat?1 h?1的高產率，領先于已報道文獻；(d) 流動池的穩定性測試；(e) Ni-DPP HMCs在流動池陰極對苯甲腈原位水解的示意圖。

圖5 機理解釋

(a) Ni-DPP HMCs原位紅外測試，可以見到 OOH*峰比其他樣品強度更高，體現了其良好的OOH*吸附能力，解釋其選擇性良好的原因；(b) 原位拉曼測試：Ni-DPP HMC在755 cm?1處表現出典型的Ni-OOH峰，隨著過電位升高（0.5V-0.3V）而增強，這與原位ATR-SEIRAS中觀察到的*OOH趨勢一致；(c-d) EPR測試與磁化率測試：解釋Ni-N₂O₂ HMCs自旋態；(e) 不同自旋態Ni金屬中心電子分布示意圖。

圖6 DFT計算

（a）電荷密度圖：高自旋樣品從苯酚氧中獲得電子多于低自旋樣品，符合XPS中高自旋樣品價態較高結果；（b）PDOS圖:Ni-DPP的Ni三維軌道中心位置為-1.63 eV，高于Ni-Salo（-2.66 eV）和Ni-H4Salo（-1.89 eV）。這表明Ni-DPP中與反應中間體的相互作用更強，解釋為何Ni-DPP HMCs具有優秀的選擇性；（c）2e-ORR火山圖：Ni-DPP居峰頂，活性/選擇性最佳；(d) 2e-/4e-ORR的自由能圖:可以看到Ni-DPP表現出了最低的2e-ORR反應能壘，更有利于*OOH脫附，而Ni-DBP表現出更高的*OOH結合能，成功論證了為何高自旋樣品更偏向4e- ORR,而低自旋樣品偏向2e-ORR；(e)形成能計算評估了 Ni-N?O? 的穩定性。Ni-DPP 顯示出最低的形成能，與其卓越的長期穩定性一致，而 Ni-Salo 顯示出最高的形成能，表明其位點最不穩定。

這項研究不僅創制了過氧化氫電合成的性能新紀錄，更構建了從催化劑原子結構設計到宏觀性能調控的完整知識框架。研究團隊通過對非第一配位層的精確工程，成功調控了鎳中心的電子結構，實現了對自旋態、氧化態和關鍵中間體吸附行為的精確控制。隨著全球對綠色化工需求的不斷增長，這種高效、穩定的過氧化氫電合成技術有望替代傳統高耗能工藝，在醫療消毒、廢水處理、清潔生產等多個領域發揮重要作用。未來，基于這一設計理念，研究團隊將進一步探索不同金屬中心和配體結構的組合，開發更多高效穩定的電合成催化劑。